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GaAs功率场效应管失效中源一漏烧毁现象的SEM/SAM研究
引用本文:杨得全,范垂祯. GaAs功率场效应管失效中源一漏烧毁现象的SEM/SAM研究[J]. 真空与低温, 1995, 0(2)
作者姓名:杨得全  范垂祯
作者单位:兰州物理研究所
摘    要:采用光学显微镜、扫描电子显微镜(SEM)及扫描俄歇微探针(SAM)等表面分析技术对GaAs功率场效应管(FET)源-漏烧毁失效现象进行了分析研究。SEM分析结果表明,源-漏烧毁失效的表面形貌状况较为复杂,烧伤区域的表面形态不尽一致。有源极烧毁较为严重的情况,也有漏极烧伤较严重的情况。SAM分析结果说明,源-漏烧毁FET中烧毁处附近的外表完好的源、漏条Au薄膜下欧姆接触金属薄膜层已完全消失,烧毁源、漏条部位表面化学元素有C、O、Ti、N和Ga,其中C、O在表层几十纳米深度内均有相当高的含量。结合分析结果,讨论了源-漏烧毁的物理机理。

关 键 词:砷化镓场效应晶体管,烧毁失效分析,SEM,SAM

ASPECT OF FAILURE OF SOURCE-DRAIN BURNOUT FOR GaAs MESFET BY SEM AND SAM
Yang Dequan, Fan Chuizhen. ASPECT OF FAILURE OF SOURCE-DRAIN BURNOUT FOR GaAs MESFET BY SEM AND SAM[J]. Vacuum and Cryogenics, 1995, 0(2)
Authors:Yang Dequan   Fan Chuizhen
Abstract:
Keywords:GaSs MESFET  Burnout failure analysis  SEM  SAM.
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