首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     

硫酸盐体系三价铬电沉积厚铬工艺研究
作者姓名:任丽丽  冯忠宝  钱坡  吴思国  胡会利
作者单位:中航工业沈阳飞机工业(集团)有限公司;哈尔滨工业大学(威海)应用化学系;厦门弘信电子科技股份有限公司;深圳清华大学研究院;深圳市工业应用分离技术重点实验室
摘    要:以较为环保的硫酸盐体系进行三价铬电镀,研究了甲酸钠、羧酸和硫酸铵质量浓度以及镀液pH、温度、电流密度和电沉积时间对铬镀层厚度和光亮范围的影响,通过扫描电镜和X射线衍射对镀层结构进行了表征。得出了三价铬电沉积厚铬的较佳工艺条件为:硫酸铬90 g/L,甲酸钠30 g/L,羧酸21 g/L,硫酸铵10 g/L,pH 2.0,温度50°C,电流密度20 A/dm2,时间30~60 min。在以上条件下电沉积铬,镀层厚度可达15.26~22.51μm,持续电镀能力为53 A·h/L。铬镀层微观形貌为胞状凸起,经过热处理后该胞状凸起消失并出现微裂纹,而且热处理后镀层由非晶态转变为晶态。

关 键 词:三价铬电镀  硫酸盐  厚度  微观结构
本文献已被 CNKI 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号