|
|||||
|
|
| 三氟化氮与等离子体工艺 | |
| 引用本文： | 俞诚.三氟化氮与等离子体工艺[J].低温与特气,1991(4):26-29. |
| 作者姓名： | 俞诚 |
| 作者单位： | 机电部中国华晶电子集团公司 无锡 |
| 摘 要： | 介绍了用NF_2代替传统使用的NH_3制备掺氟低氢等离子增强化学汽相淀积(PECVD)Six Ny:F膜、用NF_3代替CF_4等离子刻蚀超厚氮化硅薄膜的工艺试验条件和结果,对有关实际问题进行了讨论。 |
| 关 键 词： | 等离子体 三氟化氮 工艺 薄膜 |
| 本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录！ | |
|
||||||||||||||||||||||
|
||||||||||||||||||||||
|
||||||||||||||||||||||
|
|
|
|
| 设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏 |
|
Copyright©北京勤云科技发展有限公司 京ICP备09084417号 |