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| 基片表面的磁场对磁控溅射法制备Fe—N薄膜特性的影响 | |
| 作者姓名： | 朱炎 狄国庆 等 |
| 作者单位： | 苏州大学物理系，苏州215006 |
| 摘 要： | 利用反应磁控溅射方法制备了Fe-N薄膜，发现未退火的薄膜基本处于非晶或微晶状态，退火或在沉积时对基片施加一磁场，可使晶粒变大，并出现大对应内部存在应力的γ－Fe4N的（110）界面的择优取向，特别是外加的磁场使得Fe-N薄膜具有明显改善的磁性能，作利用磁场中带电粒子受约运动的观点解释了这一现象。 |
| 关 键 词： | 磁场 磁性能 晶粒 铁－氮 薄膜 磁控溅射 制备 |
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