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| 质子活化分析测定硅中氧——热解法分离~(18)F | |
| 引用本文： | 成源棣,朱新芳,华芝芬.质子活化分析测定硅中氧——热解法分离~(18)F[J].核技术,1980(6). |
| 作者姓名： | 成源棣 朱新芳 华芝芬 |
| 作者单位： | 中国科学院上海原子核研究所 (成源棣，朱新芳)，中国科学院上海原子核研究所(华芝芬) |
| 摘 要： | 采用1.2米回旋加速器产生的质子束(6.7MeV、约8μA)照射硅样品,使氧发生~(18)O(p,n)~(18)F核反应,~(18)F半衰期为110分。辐照后用化学处理腐蚀表面,然后用热解分离法分离出~(18)F,用蒸馏水吸收、处理转化 |
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