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| 射频磁控溅射法制备La0.9Sr0.1Ga0.8Mg0.2O3-σ电解质薄膜的研究 | |
| 作者姓名： | 孙红燕 马文会 陈秀华 于洁 林航昇 |
| 作者单位： | 真空冶金国家工程实验室;昆明理工大学冶金与能源工程学院;云南大学物理科学技术学院; |
| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目(50204007); 云南省中青年学术带头人后备人才资助项目(2005PY01-33); 教育部新世纪优秀人才支持计划资助项目(NCET-07-0387) |
| 摘 要： | 采用射频磁控溅射法成功地在多孔La0.9Sr0.1Ga0.8Mg0.2O3-σ(LSCM7355)阳极基底上制备了致密的LSGM电解质薄膜层.研究结果表明,当溅射功率为210W、基底温度为300℃、溅射气氛氩气压强为5Pa、溅射时间为12h,得到表观形貌较好、厚度约为10μm的LSGM电解质薄膜.在1000℃空气气氛中... |
| 关 键 词： | 固体氧化物燃料电池 LSGM RF磁控溅射 薄膜 |
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