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CSTN-LCD用铬版清洗效果的改善
引用本文:张金龙,荆海,马凯. CSTN-LCD用铬版清洗效果的改善[J]. 液晶与显示, 2006, 21(6): 692-695
作者姓名:张金龙  荆海  马凯
作者单位:中国科学院,长春光学精密机械与物理研究所,北方液晶工程研究开发中心,吉林,长春,130031
基金项目:国家自然科学基金资助项目(No.60576056)
摘    要:利用铬版清洗机对CSTN-LCD用铬版进行清洗处理,分析了清洗过程中出现的铬层脱落现象,铬层脱落与轴向喷射压力和水平切力密切相关,通过调整转速和喷射压力探索了安全使用条件:在转速不超过1000r/min,喷射压力低于0.5×105Pa的情况下使用铬版清洗机进行清洗是相对安全的。同时采用预清洗处理的方法满足清洁要求,使换线时间由平均3h缩短到平均1h以内,年产能提高270000片。

关 键 词:CSTN-LCD  铬版清洗  铬层脱落  预清洗  换线时间
文章编号:1007-2780(2006)06-0692-04
修稿时间:2006-06-03

Improvement of Cr-mask Cleaning
ZHANG Jin-long,JING Hai,MA Kai. Improvement of Cr-mask Cleaning[J]. Chinese Journal of Liquid Crystals and Displays, 2006, 21(6): 692-695
Authors:ZHANG Jin-long  JING Hai  MA Kai
Abstract:
Keywords:CSTN-LCD  Cr-mask cleaning  scraping of Cr-layer  pre-cleaning  conversion time
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录!
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