| 退火对TiO_2磁控溅射薄膜结构和光催化活性的影响 |
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| 引用本文： | 王宏,张文杰,朱圣龙,李瑛,王福会.退火对TiO_2磁控溅射薄膜结构和光催化活性的影响[J].材料保护,2010,43(2). |
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| 作者姓名： | 王宏 张文杰 朱圣龙 李瑛 王福会 |
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| 作者单位： | 沈阳理工大学环境与化学工程学院,辽宁,沈阳,110168;沈阳理工大学环境与化学工程学院,辽宁,沈阳,110168;中国科学院金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室,辽宁,沈阳,110016;中国科学院金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室,辽宁,沈阳,110016 |
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| 基金项目： | 国家重点基础研究发展计划(973计划)，国家自然科学基金 |
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| 摘 要： | 采用磁控反应溅射制备了纯TiO_2薄膜和Fe掺杂的TiO_2薄膜,研究了退火对2种TiO_2薄膜结构和光催化活性的影响.退火前TiO_2薄膜与基体结合良好,退火后薄膜发生了开裂,薄膜与基体的结合变差.TiO_2薄膜在700℃以下退火后仍保持着锐钛矿型晶体结构,但衍射峰的强度有明显的增强,说明组成薄膜的晶粒在退火过程中长大;当退火温度高于800℃时,发生了从锐钛矿向金红石型的转变.退火后TiO_2薄膜的紫外可见光透射率有较大辐度的下降;甲基橙溶液的光催化降解速率随着退火温度升高而下降.
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| 关 键 词： | TiO_2薄膜 磁控溅射 退火 光催化活性 |
Effect of Annealing on Microstructure and Photocatalytic Activity of Magnetron Sputtered Titanium Dioxide Films |
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| WANG Hong,ZHANG Wen-jie,ZHU Sheng-long,LIYing,WANG Fu-hui.Effect of Annealing on Microstructure and Photocatalytic Activity of Magnetron Sputtered Titanium Dioxide Films[J].Journal of Materials Protection,2010,43(2). |
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| Authors: | WANG Hong ZHANG Wen-jie ZHU Sheng-long LIYing WANG Fu-hui |
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| Affiliation: | WANG Hong1,ZHANG Wen-jie1,2,ZHU Sheng-long2,LIYing2,WANG Fu-hui2( 1.School of Environmental , Chemi-cal Engineering,Shenyang University of Technology,Shenyang 110168,China,2.State Key Laboratory for Corrosion , Pro-tection,Institute of Metal Research,Chinese Academy of Sci-ences,Shenyang 110016,China) |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | TiO_2 film magnetron sputtering annealing photocatalytic activity |
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