| 移相掩模应用技术 |
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| 引用本文： | 贾海强,张玉清,张慕义,李岚. 移相掩模应用技术[J]. 半导体技术, 1999, 0(2) |
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| 作者姓名： | 贾海强 张玉清 张慕义 李岚 |
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| 作者单位： | 信息产业部电子第十三研究所,石家庄,050051 |
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| 摘 要： | 一种用于大栅宽器件的移相掩模应用技术是将移相器边缘线用作不透明掩模，以代替铬图形。利用此移相掩模技术，制作了特征线长为０．１５μｍ的微细栅条和大栅宽器件。
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| 关 键 词： | 亚半微米 移相掩模 |
| 修稿时间： | 19980908 |
Phase-Shifting Mask Application Technology |
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| Jia Haiqiang,Zhang Yuqing,Zhang Muyi,Li Lan. Phase-Shifting Mask Application Technology[J]. Semiconductor Technology, 1999, 0(2) |
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| Authors: | Jia Haiqiang Zhang Yuqing Zhang Muyi Li Lan |
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| Affiliation: | Phase-Shifting Mask ApplicationTechnology;Jia Haiqiang,Zhang Yuqing,ZhangMuyi,Li Lan;( |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Sub half micron Phase shifting mask |
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