| 氮化硅加入量对碳化硅-氮化硅-莫来石复相材料氧化层的影响 |
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| 引用本文： | 张雍,郝岑,刘曙光.氮化硅加入量对碳化硅-氮化硅-莫来石复相材料氧化层的影响[J].山东化工,2016(4):20-22,24. |
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| 作者姓名： | 张雍 郝岑 刘曙光 |
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| 作者单位： | 山东理工大学材料科学与工程学院 |
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| 摘 要： | 以莫来石、红柱石、氮化硅、碳化硅为主要原料,在空气气氛下烧成制备碳化硅-氮化硅-莫来石复相材料,并采用XRD、SEM样品进行了表征。结果表明:碳化硅化硅-氮化硅-莫来石复合材料在烧结过程中会在试样表面形成氧化层,分为氧化膜和致密层。氧化膜的主要成分为Si O2,其主要是碳化硅和氮化硅的氧化产物,随着试样中氮化硅含量的增加,试样表面形成的Si O2逐渐增多;试样截面出现致密层,随着试样中氮化硅含量的增加,试样的致密层厚度逐渐减小。
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| 关 键 词： | 氮化硅 碳化硅 氧化层 |
Effect of Addition of Silicon Nitride on the Oxide Layer of Silicon Nitride Silicon Mullite Composites |
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| Zhang Yong;Hao Cen;Liu Shuguang.Effect of Addition of Silicon Nitride on the Oxide Layer of Silicon Nitride Silicon Mullite Composites[J].Shandong Chemical Industry,2016(4):20-22,24. |
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| Authors: | Zhang Yong;Hao Cen;Liu Shuguang |
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| Affiliation: | Zhang Yong;Hao Cen;Liu Shuguang;College of Materials Science and Engineering,Shandong University of Technology; |
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