Nb—Si—N混合薄膜的HRTEM观察 |
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引用本文: | 韩增虎,胡晓萍,劳技军,李戈扬. Nb—Si—N混合薄膜的HRTEM观察[J]. 电子显微学报, 2002, 21(5): 643-644 |
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作者姓名: | 韩增虎 胡晓萍 劳技军 李戈扬 |
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作者单位: | 上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室,上海,200030 |
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摘 要: | Veprek等[1] 在TiN薄膜中加入Si形成的由非晶Si3 N4分隔的纳米晶TiN薄膜 (记为n TiN a Si3 N4) ,呈现出超高硬度而成为近年来超硬薄膜的研究热点之一。NbN薄膜具有很高的硬度 ,高的耐磨性 ,耐腐蚀性[2 ] 和良好的热稳定性[3 ] 。NbN薄膜中添加Si元素也是改善其性能的途径之一。为了深入地研究Si对NbN薄膜微结构和力学性能的影响及其机理 ,本文采用多靶磁控反应溅射的方法制备了Nb Si N系混合薄膜 ,研究了Si在Nb Si N系薄膜中的存在形式 ,及其对薄膜的微结构和力学性能的影响。实验所用N…
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关 键 词: | Nb-Si-N混合薄膜 HRTEM 高分辨电子显微镜 微结构 硬度 弹性模量 |
HRTEM observation of Nb-Si-N composite films |
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