| Nb—Si—N混合薄膜的HRTEM观察 |
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| 引用本文： | 韩增虎,胡晓萍,劳技军,李戈扬. Nb—Si—N混合薄膜的HRTEM观察[J]. 电子显微学报, 2002, 21(5): 643-644 |
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| 作者姓名： | 韩增虎 胡晓萍 劳技军 李戈扬 |
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| 作者单位： | 上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室,上海,200030 |
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| 摘 要： | Ｖｅｐｒｅｋ等[1] 在ＴｉＮ薄膜中加入Ｓｉ形成的由非晶Ｓｉ3 Ｎ4分隔的纳米晶ＴｉＮ薄膜 (记为ｎ ＴｉＮ ａ Ｓｉ3 Ｎ4) ,呈现出超高硬度而成为近年来超硬薄膜的研究热点之一。ＮｂＮ薄膜具有很高的硬度 ,高的耐磨性 ,耐腐蚀性[2 ] 和良好的热稳定性[3 ] 。ＮｂＮ薄膜中添加Ｓｉ元素也是改善其性能的途径之一。为了深入地研究Ｓｉ对ＮｂＮ薄膜微结构和力学性能的影响及其机理 ,本文采用多靶磁控反应溅射的方法制备了Ｎｂ Ｓｉ Ｎ系混合薄膜 ,研究了Ｓｉ在Ｎｂ Ｓｉ Ｎ系薄膜中的存在形式 ,及其对薄膜的微结构和力学性能的影响。实验所用Ｎ…
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| 关 键 词： | Nb－Si－N混合薄膜 HRTEM 高分辨电子显微镜 微结构 硬度 弹性模量 |
HRTEM observation of Nb-Si-N composite films |
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