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真空灭弧室制造技术的发展
作者姓名:G. J. Rushton  张祥贤
作者单位:
摘    要:一、引言1965年11月4日,英国GEC工业控制公司宣布制成世界上第一台采用玻璃外壳真空灭弧室的3.3kV、300A实用真空接触器。1980年GEC工业控制公司为保持它在真空灭弧室制造技术方面的领先地位,开始了一项新的发展计划。1983年首次制成陶瓷外壳真空灭弧室,它在设计上有较大的改革,包括采用陶瓷外壳和新型触头材料。这一发展计划的主要内容是研究并完成一项改革性的新制造工艺,在特殊设计的真空炉中一次完成钎焊、排气、封接真空灭弧室的生产全过程。

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