用于激射波长可控的CaAs/AlGaAs量子阱激光二极管的大面积均匀OMVPE生长 |
| |
摘 要: | 在垂直旋转圆形OMVPE外延炉里压力减小到0.2atm下生长的GaAs和AlGaAs的特性非常均匀。衬底旋转500r/min,厚外延层均匀性是±1%。而3~10nm厚的量子阱,其厚度的均匀性是±2%。铝组分的变化系数是1.8×10-3或者更小。对于含有单量子阱有源层的宽面积GRIN-SCH二极管激光器,其阈值电流密度和微分量子效率非常均匀。激光器的激射波长可以通过调整有源层厚度和组分精确控制。175个器件分布在16cm2的片子上,片子包含一个10nm厚的Al0.07Ga0.93As有源层,激射波长,总的变化为3.0nm。从9个其它外延片上取出的所有供试验的管子,其波长范围是从803.5到807.4nm。
|
Large-Area-Uniform OMVPE Growth for GaAs/AgaAs Quantum-Well Diode Lasers with Controlled Emission Wavelength |
| |
Abstract: | Abstract |
| |
Keywords: | |
本文献已被 CNKI 等数据库收录! |