| 磁控溅射离子镀铌贫铀的电化学腐蚀行为 |
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| 引用本文： | 王庆富,刘清和,王晓红,郎定木,李科学,唐凯,刘卫华.磁控溅射离子镀铌贫铀的电化学腐蚀行为[J].稀有金属材料与工程,2008,37(2):289-293. |
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| 作者姓名： | 王庆富 刘清和 王晓红 郎定木 李科学 唐凯 刘卫华 |
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| 作者单位： | 表面物理与化学国家重点实验室,四川,绵阳,621907 |
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| 基金项目： | 中国工程物理研究院科学技术基金委员会"双百人才基金" |
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| 摘 要： | 利用电化学测试技术、扫描电镜(SEM)及X射线能谱(EDS)对磁控溅射离子镀铌贫铀的电化学腐蚀行为进行了研究.实验结果表明:在50μg/g Cl-的KCl溶液中,铌的腐蚀电位远高于贫铀的腐蚀电位,铌镀层对贫铀是阴极性镀层,对贫铀的保护是基于其对腐蚀介质的物理屏障作用;镀铌贫铀的极化电阻和电化学阻抗幅值远大于贫铀,腐蚀电流远小于贫铀,铌镀层对贫铀具有良好的防腐蚀性能;镀铌贫铀的腐蚀特征为局部腐蚀,并由孔蚀向电偶腐蚀转变.
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| 关 键 词： | 贫铀 铌镀层 磁控溅射离子镀 电化学腐蚀 磁控溅射 离子镀 贫铀 电化学 腐蚀行为 Magnetron Sputter Ion Plating Niobium Uranium Corrosion 转变 电偶腐蚀 孔蚀 局部 腐蚀特征 防腐蚀性能 腐蚀电流 化学阻抗 极化电阻 屏障作用 物理 |
| 文章编号： | 1002-185X（2008）02-0289-05 |
| 收稿时间： | 2007-02-27 |
| 修稿时间： | 2007年2月27日 |
Electrochemical Corrosion Behaviors of Depleted Uranium Coated With Niobium Deposited by Magnetron Sputter Ion Plating |
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| Wang Qingfu,Liu Qinghe,Wang Xiaohong,Lang Dingmu,Li Kexue,Tang Kai,Liu Weihua.Electrochemical Corrosion Behaviors of Depleted Uranium Coated With Niobium Deposited by Magnetron Sputter Ion Plating[J].Rare Metal Materials and Engineering,2008,37(2):289-293. |
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| Authors: | Wang Qingfu Liu Qinghe Wang Xiaohong Lang Dingmu Li Kexue Tang Kai Liu Weihua |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | depleted uranium niobium coating magnetron sputter ion plating electrochemical corrosion |
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