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Φ105 mm区熔硅单晶的生长工艺研究
引用本文:郭立洲.Φ105 mm区熔硅单晶的生长工艺研究[J].稀有金属,2002,26(6):513-516.
作者姓名:郭立洲
作者单位:河南新乡华丹电子有限责任公司,河南,新乡,453002
摘    要:介绍了FZ硅单晶的熔区悬浮原理 ,说明了生产Φ10 5mmFZ硅单晶所用多晶原材料的技术标准 ,通过对不同形式的加热线圈进行分析 ,指出了较理想的加热线圈 ,讨论了反射器和改进后的晶体夹持装置的具体应用。对Φ10 5mmFZ硅单晶的关键生长工艺进行了描述

关 键 词:FZ硅单晶  加热线圈  夹持装置  生长工艺
文章编号:0258-7076(2002)06-0513-04
修稿时间:2002年4月1日

Φ105 mm FZ-Si Monocrystal Growth Process
Guo Lizhou.Φ105 mm FZ-Si Monocrystal Growth Process[J].Chinese Journal of Rare Metals,2002,26(6):513-516.
Authors:Guo Lizhou
Abstract:
Keywords:FZ silicon monocrystal  heating coil  supporter  growth process
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