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Ni丝的自电热升华镀膜及其机理研究
引用本文:黄醒良,袁诗鑫.Ni丝的自电热升华镀膜及其机理研究[J].红外技术,1993,15(5):3-7.
作者姓名:黄醒良  袁诗鑫
作者单位:中国科学院红外物理国家实验室,中国科学院红外物理国家实验室,中国科学院红外物理国家实验室,中国科学院上海技术物理研究所 上海 200083,上海 200083,上海 200083,上海 200083
摘    要:讨论了Ni丝自电热升华镀Ni的机理,测定了Φ0.5mmNi丝的升华速率α_V(I′),并讨论了Ni丝镀膜的控制工艺;最后测定了Ni丝的自电热电阻R(I′)和小电流下的变温电阻R(T)。

关 键 词:真空镀镍  变温电阻  红外材料  调速

Ni Wire Self Electro-heating Sublimating Deposition and Its Mechanism
Huang Xingliang,Fang Xiaoming,Shen Xuechu.Ni Wire Self Electro-heating Sublimating Deposition and Its Mechanism[J].Infrared Technology,1993,15(5):3-7.
Authors:Huang Xingliang  Fang Xiaoming  Shen Xuechu
Abstract:
Keywords:Vaccum deposition of Ni  Self electro - heating sublimation  Deposition rate control  Temperature-dependent resistance
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