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1571nm超窄带干涉滤光片的研制
引用本文:陈兵,付秀华. 1571nm超窄带干涉滤光片的研制[J]. 长春理工大学学报(自然科学版), 2009, 32(2): 236-238
作者姓名:陈兵  付秀华
作者单位:长春理工大学,光电工程学院,长春,130022;长春理工大学,光电工程学院,长春,130022
摘    要:针对现代光通信中的核心元件之一-密集型波分复用系统中极窄带光学薄膜干涉滤光片的指标要求,在WMS02基片上研制中心波长为1571nm,-0.5dB(透过率为89.12%)带宽大于0.25nm,-25dB(透过率为0.32%)带宽小于1nm的超窄带干涉滤光片.根据薄膜设计理论采用四分之一波长的规整膜系进行膜系设计.应用离子辅助真空镀膜技术,选用Nb2O5/Ta2O5和SiO2氧化物硬质薄膜材料进行实验,重点解决了膜厚均匀性的问题,制备出符合使用要求的滤光片.

关 键 词:光学薄膜  干涉滤光片  离子束溅射  直接监控

The Study and Preparationon Extremely Narrow-band Interference Filter at 1571nm
CHEN Bing,FU Xiuhua. The Study and Preparationon Extremely Narrow-band Interference Filter at 1571nm[J]. Journal of Changchun University of Science and Technology, 2009, 32(2): 236-238
Authors:CHEN Bing  FU Xiuhua
Affiliation:CHEN Bing,FU Xiuhua (School of Optoelectronic Enginearing,Changchun University of Science , Technology,Changchun 130022)
Abstract:
Keywords:optical film  interference film  ion-beam sputtering  direct monitor  
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