| Mo／Al—CLM和Mo／γ—Al2O3催化剂表面上钼的分散性 |
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| 引用本文： | 刘维桥,沈文丽,翟玉春,孙桂大.Mo／Al—CLM和Mo／γ—Al2O3催化剂表面上钼的分散性[J].石油化工高等学校学报,2001,14(3):1-6,31. |
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| 作者姓名： | 刘维桥 沈文丽 翟玉春 孙桂大 |
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| 作者单位： | 1. 东北大学材料与冶金学院
2. 抚顺石油学院石油化工系
3. 北京石油化工学院 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目 ( 2 96730 0 1 ) |
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| 摘 要： | 采用浸渍法和干混法制备了一系列负载钼的层柱分子筛催化剂 (Mo/Al-CLM )以及负载钼的γ -Al2 O3催化剂 (Mo/γ -Al2 O3)。利用XRD分析了样品表面上钼的分散性。结果发现 ,两种催化剂无论是浸渍法合成还是干混法合成 ,均可以使催化剂中钼在载体表面上自发分散而使晶相钼物种消失 ,而钼含量高时 ,催化剂表面上保留晶相钼物种。而且无论是浸渍法还是干混法合成的催化剂 ,相同钼含量时 ,均是Mo/γ -Al2 O3催化剂表面上钼的分散性优于Mo/Al-CLM催化剂。通过氨水处理 ,可以使低、中以及高钼含量的催化剂上所有晶相钼物种消失 ,即溶解掉一部分表面钼物种 ,改善了钼物种在载体表面上的分散性
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| 关 键 词： | 层柱分子筛 γ-Al2O3 钼 分散性 |
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