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不同厚度四面体非晶碳薄膜的拉曼表征和内应力
引用本文:朱嘉琦,韩杰才,高巍,孟松鹤.不同厚度四面体非晶碳薄膜的拉曼表征和内应力[J].新型炭材料,2006,21(1):59-63.
作者姓名:朱嘉琦  韩杰才  高巍  孟松鹤
作者单位:哈尔滨工业大学,复合材料与结构研究所,黑龙江,哈尔滨,150001
基金项目:国家预研基金;国家科技攻关项目
摘    要:为了探讨膜厚对四面体非晶碳薄膜拉曼结构表征和内应力的影响规律,进而确定应力与拉曼光谱之间的关系,采用过滤阴极真空电弧技术以相同的工艺条件在P(100)单晶抛光硅衬底上制备了从3nm~350nm不同厚度的四面体非晶碳薄膜。利用表面轮廓仪和原子力显微镜测试膜厚,表面轮廓仪确定曲率半径并计算薄膜应力,共聚焦拉曼光谱表征薄膜的结构细节。实验发现,随着膜厚的增加,四面体非晶碳薄膜的应力持续下降,当膜厚超过30nlll时,应力的下降趋势变得平缓,并保持在小于5GPa的较低水平。随着膜厚的增加,可见光拉曼光谱中衬底硅的一阶和二阶谱峰强度逐渐降低,在50nm~80nm膜厚范围,半高宽最窄,峰强最高,能够最有效地获得拉曼结构信息。随着膜厚的增加和应力的下降,非晶碳一阶谱峰的峰位表现为逐渐向低频偏移。

关 键 词:四面体非晶碳  过滤阴极真空电弧  拉曼光谱  应力
文章编号:1007-8827(2006)01-0059-05
收稿时间:2005-05-15
修稿时间:2006-03-04

Raman characteristics and intrinsic stress of tetrahedral amorphous carbon films with different film thicknesses
ZHU Jia-qi,HAN Jie-cai,GAO Wei,MENG Song-he.Raman characteristics and intrinsic stress of tetrahedral amorphous carbon films with different film thicknesses[J].New Carbon Materials,2006,21(1):59-63.
Authors:ZHU Jia-qi  HAN Jie-cai  GAO Wei  MENG Song-he
Affiliation:Center for Composite Materials, Harbin Institute of Technology, Harbin, 150001, China
Abstract:
Keywords:Tetrahedral amorphous carbon  Filtered cathodic vacuum arc  Raman spectra  Stress
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