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| 提高太阳能集热管磁控溅射镀膜沉积速率的研究 | |
| 引用本文： | 陈文光,饶益花,李云程. 提高太阳能集热管磁控溅射镀膜沉积速率的研究[J]. 真空科学与技术学报, 2009, 29(3). DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2009.03.22 |
| 作者姓名： | 陈文光 饶益花 李云程 |
| 作者单位： | 1. 南华大学电气工程学院,衡阳,421001 2. 南华大学数理学院,衡阳,421001 3. 衡阳市真空机电设备有限公司,衡阳,421001 |
| 基金项目： | 科技部中小企业创新基金 |
| 摘 要： | 工业上用磁控溅射技术为太阳能集热管制备Al-N/Al选择性吸收涂层,这种吸收涂层最外层为AlN介质减反层.在开环N2流量控制模式下,存在溅射制备AlN介质减反层沉积速率低的缺点.本文依据气相化学反应动力学理论,薄膜的沉积率正比于反应气体的浓度,提出了一种提高制备AlN陶瓷减反层沉积速率的方法.该方法将直流溅射靶电压反馈至模糊控制器,控制N2流量大小,让磁控溅射镀膜机稳定工作在拐点电压附近,实现反应溅射恒电压控制.并且采用单片机技术制作了样机,在SCS-700A型太阳能集热管镀膜机中使用,实验结果表明,镀膜沉积速率提高了4倍以上,整个系统工作稳定. |
| 关 键 词： | 磁控溅射 太阳能集热管 选择性吸收涂层 沉积速率 镀膜 模糊控制 恒电压控制 |
Deposition Rate Enhancement of Magnetron-Sputtered Al-N/Al Films Used in Solar Thermal Collector Tube |
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| Chen Wenguang,Rao Yihua,Li Yuncheng. Deposition Rate Enhancement of Magnetron-Sputtered Al-N/Al Films Used in Solar Thermal Collector Tube[J]. JOurnal of Vacuum Science and Technology, 2009, 29(3). DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2009.03.22 | |
| Authors: | Chen Wenguang Rao Yihua Li Yuncheng |
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