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| 双室旋转磁控溅射镀膜机的研制 | |
| 作者姓名： | 王贵义 王世忠 |
| 作者单位： | 核工业西南物理研究院 四川乐山市614007(王贵义，王世忠，杨洪森)，核工业西南物理研究院 四川乐山市614007(李昕涛) |
| 摘 要： | 本文叙述了双室旋转磁控溅射镀膜机的结构、工作原理和主要性能，并对磁场强度、充气压强、放电电压、电流等工作参数以及沉积速率的影响进行了一系列实验，从而选择了该机的最佳运动参数． |
| 关 键 词： | 磁控溅射 镀膜机 薄膜技术 |
| 本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录！ | |
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