| 辅助气体压强比例对中频脉冲非平衡磁控溅射沉积类金刚石薄膜结构与性能的影响 |
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| 引用本文： | 代海洋,翟凤潇,陈镇平. 辅助气体压强比例对中频脉冲非平衡磁控溅射沉积类金刚石薄膜结构与性能的影响[J]. 真空, 2012, 49(6) |
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| 作者姓名： | 代海洋 翟凤潇 陈镇平 |
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| 作者单位： | 郑州轻工业学院技术物理系,河南郑州,450002 |
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| 基金项目： | 郑州轻工业学院博士科研基金资助项目 |
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| 摘 要： | 以高纯石墨为靶材、氩气(Ar)和甲烷(CH4)为辅助气体,利用中频脉冲非平衡磁控溅射技术在不同气体压强比例下制备了类金刚石薄膜,采用原子力显微镜、拉曼光谱仪、傅立叶变换红外光谱仪、纳米压痕测试仪对所制备薄膜的表面形貌、微观结构、机械性能进行了分析.结果表明:当Ar气压强比例由17％增加到50％时,类金刚石薄膜的RMS表面粗糙度、sp3杂化键含量、纳米硬度、弹性模量随Ar气压强比例的增加而增加,当Ar气压强比例由50％增加到86％时,薄膜的RMS表面粗糙度、sp3杂化键含量、纳米硬度、弹性模量随Ar气压强比例的增加而减小.以上结果说明辅助气体压强比例对类金刚石薄膜的表面形貌、微观结构、机械性能有较大的影响.
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| 关 键 词： | 类金刚石膜 中频脉冲非平衡磁控溅射 气体压强比例 结构与性能 |
Effects of the mixed gas ratio on the microstructure and properties of diamond-like carbon films deposited by middle frequency pulsed unbalanced magnetron sputtering |
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| DAI Hai-yang , ZHAI Feng-xiao , CHEN Zhen-ping. Effects of the mixed gas ratio on the microstructure and properties of diamond-like carbon films deposited by middle frequency pulsed unbalanced magnetron sputtering[J]. Vacuum(China), 2012, 49(6) |
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| Authors: | DAI Hai-yang ZHAI Feng-xiao CHEN Zhen-ping |
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