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| 脉冲电镀制靶(源)技术研究进展 | |
| 作者姓名： | 杨春莉 苏树新 张生栋 |
| 摘 要： | 制备锕系元素靶(源)的常用方法是电镀法(又称电沉积法),它具有沉积效率高、设备简单、操作方便等优点,且可在衬底上获得均匀牢固的镀层。常用的电镀法均使用直流电源。用电镀法制备的靶镀层内应力大,易开裂,沉积厚度有限。近几年来发展了1种新型脉冲电镀制源技术。该技术采用脉冲电源,可提高电流效率,使镀层结晶紧密、牢固,均匀性好,源外观平整,可制备厚度大于150mg/cm2的超厚源和靶,突破了传统电镀法的局限性,是1项极具应用前景的新型制源技术。2005年,在脉冲电沉积可行性验证实验基础上,我们研究了在DMF(二甲基甲酰胺)溶剂中脉冲沉积铀… |
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