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聚四氟乙烯低温等离子体表面改性与粘接性能
引用本文:贾冬义,钟少锋,赵玲利,王守国.聚四氟乙烯低温等离子体表面改性与粘接性能[J].高分子材料科学与工程,2008,24(5):60-63.
作者姓名:贾冬义  钟少锋  赵玲利  王守国
作者单位:1. 中国科学院光电研究院,北京,100010;长春理工大学,吉林,长春,130022
2. 中国科学院光电研究院,北京,100010
摘    要:利用自行研制的真空低温等离子体设备对聚四氟乙烯(Teflon)薄膜材料进行表面处理,并对等离子体处理后Teflon之间粘接性能作了研究,找到了一些实用的工艺;采用静态接触角、SEM和XPS对等离子体处理前后Teflon的表面接触角、时效性、微观结构及表面成分的改变进行了分析。实验结果显示,其表面接触角随处理时间的变化存在一个最佳值,随着处理时间的进一步增加,其亲水性又开始变差。

关 键 词:等离子体  聚四氟乙烯薄膜  表面改性  粘接

Teflon Surface Modification and Adhesion by Low Temperature Plasma
JIA Dong-yi,ZHONG Shao-feng,ZHAO Ling-li,WANG Shou-guo.Teflon Surface Modification and Adhesion by Low Temperature Plasma[J].Polymer Materials Science & Engineering,2008,24(5):60-63.
Authors:JIA Dong-yi  ZHONG Shao-feng  ZHAO Ling-li  WANG Shou-guo
Abstract:
Keywords:plasma  teflon film  surface modification  adhesion
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