|
|||||
|
|
| 半导体工艺中超高纯气的稳定供应技术 | |
| 引用本文： | 韩美,刘俊义.半导体工艺中超高纯气的稳定供应技术[J].低温与特气,2000,18(2):21-24. |
| 作者姓名： | 韩美 刘俊义 |
| 摘 要： | 新的半导体制造工艺要求高精度 ,具有可再现性的科学化的制造技术 ,因此对超高纯气的供应技术提出了更高要求 |
| 关 键 词： | 半导体制造工艺 超高纯气体 稳定供应 |
| 文章编号： | 1007-7804(2000)02-0021-04 |
| 修稿时间： | 2000-02-17 |
| 本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录！ | |