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坩埚下降法生长时体系参数对界面形状影响的计算机研究
引用本文:黄朝恩,D.Elwell,R.S.Feigelson.坩埚下降法生长时体系参数对界面形状影响的计算机研究[J].硅酸盐学报,1985(2).
作者姓名:黄朝恩  D.Elwell  R.S.Feigelson
作者单位:国家建材局人工晶体研究所 (黄朝恩),美国斯坦福大学 (D.Elwell),美国斯坦福大学(R.S.Feigelson)
基金项目:美国科学基金会MRL计划
摘    要:本文用有限元分析法研究了坩埚下降法(Bridgman法)晶体生长时界面的位置、温度梯度、生长速率和潜热对界面形状的影响。由计算发现,界面的形状和温度梯度的突变点到界面的距离有密切的依赖关系;由坩埚的移动而引起的热传输,正如预期的那样,有使界面变得更凹的倾向。

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