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| 一种新的空间调制光谱技术及其对几种半导体材料的应用 | |
| 引用本文： | 查访星,黄醒良,沈学础.一种新的空间调制光谱技术及其对几种半导体材料的应用[J].半导体学报,1997,18(5):329-332. |
| 作者姓名： | 查访星 黄醒良 沈学础 |
| 作者单位： | 中国科学院上海技术物理研究所 |
| 摘 要： | 本文提出了另一种新的对样品实行空间调制的微分反射光谱技术．文中给出了实验方法，讨论了调制机理，指出即使纯的体材料表面未经不均匀性处理，该方法也可直接给出其能隙大小，对GaAs的实验结果说明了这一观点．本文还分析了微分反射方法研究量子阱超晶格等薄膜半导体材料时的物理机理，给出并解释了InGaAs／GaAs单量子阱，AlGaAs／GaAsHBT等材料的微分反射谱．为了比较起见，文中还对照给出了每一样品的光调制反射谱． |
| 关 键 词： | 半导体材料 空间调制 微分反射谱 |
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