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沉积温度对非平衡磁控溅射MoS2-Ti复合薄膜的结构与性能影响研究
引用本文:周晖,郑军,温庆平,桑瑞鹏,万志华. 沉积温度对非平衡磁控溅射MoS2-Ti复合薄膜的结构与性能影响研究[J]. 润滑与密封, 2007, 32(12): 16-19,22
作者姓名:周晖  郑军  温庆平  桑瑞鹏  万志华
作者单位:兰州物理研究所表面工程技术国防科技重点实验室,甘肃兰州,730000;兰州物理研究所表面工程技术国防科技重点实验室,甘肃兰州,730000;兰州物理研究所表面工程技术国防科技重点实验室,甘肃兰州,730000;兰州物理研究所表面工程技术国防科技重点实验室,甘肃兰州,730000;兰州物理研究所表面工程技术国防科技重点实验室,甘肃兰州,730000
摘    要:采用非平衡磁控溅射沉积技术制备MoS2-Ti复合薄膜,研究了沉积温度对薄膜的结构和性能的影响。利用SEM、XRF和XRD分析薄膜的形貌、成分和晶相结构,用CSEM薄膜综合性能测试仪测试薄膜的硬度和与基底间的附着力,用球-盘摩擦试验机和真空环模系统评价薄膜的真空摩擦磨损性能。结果表明:沉积温度升高薄膜中S和Mo原子比从1.72升高至1.76,Ti质量分数从8.2%降低至6.7%,薄膜从明显的(002)基面优势取向向多晶态转变,晶粒尺寸变大,棱面膜含量增多;薄膜的硬度、与基底间的附着力都随沉积温度的升高而降低,沉积温度为200℃时薄膜性能降低明显,硬度从4GPa降至2GPa,薄膜与基底间附着力从80mN以上降至35mN;薄膜在真空环境中的减摩作用不受沉积温度影响,摩擦因数平均值为0.02,波动范围为0.01~0.04,薄膜耐磨寿命随沉积温度升高而降低,50℃和100℃薄膜耐磨寿命相差不多,200℃薄膜样品耐磨寿命很差,是50℃和100℃薄膜样品的1/8~1/7。

关 键 词:非平衡磁控溅射  MoS2-Ti复合薄膜  沉积温度  结构和性能
文章编号:0254-0150(2007)12-016-4
收稿时间:2007-08-24
修稿时间:2007-08-24

Study of Structure and Performance of Unbalanced Magnetron Sputtering MoS2-Ti Coating Affected by Deposition Temperature
Zhou Hui,Zheng Jun,Wen Qingping,Sang Ruipeng,Wan Zhihua. Study of Structure and Performance of Unbalanced Magnetron Sputtering MoS2-Ti Coating Affected by Deposition Temperature[J]. Lubrication Engineering, 2007, 32(12): 16-19,22
Authors:Zhou Hui  Zheng Jun  Wen Qingping  Sang Ruipeng  Wan Zhihua
Abstract:
Keywords:unbalanced magnetron sputtering  MoS_2-Ti coating  deposition temperature  structure and performance
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