| 摘 要： | 随着光纤通信的迅速发展，光放大器（EDFA）和色散补偿技术的使用，已使像衰减或色散这样的光纤参数不再是制约通讯系统的主要因素。但具有随机性，易受外界条件影响的偏振模色散（PMD）却可能对长距离、高比特率数字通信系统和模拟系统有不可忽视的影响。PMD是光纤内部双折射和随机模耦合共同作用的结果。随机模耦合对温度环境条件、光源等因素都很敏感，所以PMD是一统计量，并且目前无补偿办法。正是由于PMD的随机性和无法补偿性，将使PMD成为限制光纤传输容量的最终因素。减小和控制PMD也越来越重要。众所周知，石英光纤的生产工艺主要有OVD、VAD（管外法）及MCVD、PCVD（管内法）工艺。其中，PCVD工艺，因其沉积区移动快，加上沉积速率低、单层沉积厚度薄、沉积效率高、稳定性佳等，故可制作出剖面非常精细的预制棒。因此PCVD工艺明显优于其它工艺，特别适于生产多模光纤(抛物面分布)及剖面复杂的零色散位移光纤（G.653）、非零色散位移光纤（G.655），如其多模光纤，以优异的质量长期享誉国内外。当然，与其它工艺相比，PCVD工艺的匹配单模光纤(G.652)的生产与工艺水平也毫不逊色。1.PCVD工艺的特点PCVD工艺即pla...
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