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磁控溅射制备TiO2薄膜的亲水性能研究
引用本文:黄永刚,陈敏,李长敏,张庆瑜. 磁控溅射制备TiO2薄膜的亲水性能研究[J]. 材料科学与工程学报, 2004, 22(3): 401-404
作者姓名:黄永刚  陈敏  李长敏  张庆瑜
作者单位:大连轻工业学院,玻璃及无机新材料研究所,辽宁,大连,116034;大连轻工业学院,材料科学与工程系,辽宁,大连,116034;大连理工大学,三束材料改性国家重点实验室,辽宁,大连,116024
摘    要:用射频磁控溅射法在玻璃基片上制备TiO2薄膜,并分别在300℃、400℃、500℃下进行热处理.用紫外吸收光谱、原子力显微镜(AFM)、接触角测定等分析方法研究了制备工艺、热处理和紫外光照射时间对薄膜表面亲水性的影响.结果表明,经紫外光照射或热处理后的TiO2薄膜表面表现出明显的超亲水性,而制备工艺的变化对亲水性的影响不明显.光谱、AFM分析表明,导致薄膜表面亲水性的原因在于薄膜表面微结构的变化.

关 键 词:TiO2薄膜  磁控溅射  亲水性  表面微结构
文章编号:1004-793X(2004)03-0401-04
修稿时间:2003-08-25

Study on Hydrophilic Properties of TiO2 Thin Films Prepared by Magnetron Sputtering
HUANG Yong-gang ,CHEN Min ,LI Chang-min ,ZHANG Qing-yu. Study on Hydrophilic Properties of TiO2 Thin Films Prepared by Magnetron Sputtering[J]. Journal of Materials Science and Engineering, 2004, 22(3): 401-404
Authors:HUANG Yong-gang   CHEN Min   LI Chang-min   ZHANG Qing-yu
Affiliation:HUANG Yong-gang 1,CHEN Min 2,LI Chang-min 2,ZHANG Qing-yu 3
Abstract:
Keywords:TiO_2 thin films  magnetron sputtering  hydrophilicity  surface microstructure
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