| InP/空气隙结构的制作与特性 |
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| 引用本文： | 刘成,曹春芳,劳燕锋,曹萌,吴惠桢.InP/空气隙结构的制作与特性[J].光电子．激光,2008,19(9). |
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| 作者姓名： | 刘成 曹春芳 劳燕锋 曹萌 吴惠桢 |
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| 作者单位： | 1. 中国科学院上海微系统与信息技术研究所,信息功能材料国家重点实验室,上海200050;上海空间电源研究所,上海200233
2. 中国科学院上海微系统与信息技术研究所,信息功能材料国家重点实验室,上海200050 |
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| 基金项目： | 国家重点基础研究发展计划(973计划) |
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| 摘 要： | 研究了采用不同溶液制作InP/空气隙的侧向腐蚀工艺,对腐蚀速率、晶向选择性、表面形貌进行了分析;研究了粘附释放工艺;在上述基础上制作完成了InP/空气隙结构,并采用微拉曼光谱来分析其应力分布情况,证实了制作工艺的可靠性.
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| 关 键 词： | InP/空气隙 侧向腐蚀 微拉曼光谱 |
Fabrication and characterization of InP/air-gap structure |
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| LIU Cheng,CAO Chun-fang,LAO Yan-feng,CAO Meng,WU Hui-zhen.Fabrication and characterization of InP/air-gap structure[J].Journal of Optoelectronics·laser,2008,19(9). |
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| Authors: | LIU Cheng CAO Chun-fang LAO Yan-feng CAO Meng WU Hui-zhen |
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| Affiliation: | LIU Cheng1,2,CAO Chun-fang1,LAO Yan-feng1,CAO Meng1,WU Hui-zhen1(1.State Key Laboratory of Functional Materials for Informatics,Shanghai Institute of Microsystem , Information Technology,Chinese Academy of Sciences,Shanghai 200050,China,2.Shanghai Institute of Space Power Sources,Shanghai 200233,China) |
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| Abstract: | The InP/air-gap structure is fabricated by using lateral etching with different etchants.Etching rates,anisotropy and surface roughness are also analyzed.And stiction releasing technology is investigated.Then the surface stress profiling of the InP/air-gap structure has been carried out by micro-Raman measurements,which proves good reliability of our fabrication process. |
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| Keywords: | InP/air-gap lateral etching micro-Raman spectrum |
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