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| 药厂塔类设备有机垢化学清洗新工艺 | |
| 引用本文： | 陈仲祥,高慧琴.药厂塔类设备有机垢化学清洗新工艺[J].河北化工,2002(2):22-22,24. |
| 作者姓名： | 陈仲祥 高慧琴 |
| 作者单位： | 河北科技大学机械电子工程学院 河北石家庄050018 (陈仲祥)，河北科技大学机械电子工程学院 河北石家庄050018(高慧琴) |
| 摘 要： | 讨论了塔类设备有机垢的生成原因，简要介绍了清洗剂选择条件、化学清洗工艺流程及方案的确定和清洗后的效果。 |
| 关 键 词： | 制药设备 清洗剂 有机垢 塔类设备 化学清洗 |
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