| TiN薄膜的制备及其纳米力学性能研究 |
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| 引用本文： | 肖卫华,崔秀芳,何正彪. TiN薄膜的制备及其纳米力学性能研究[J]. 河南理工大学学报(自然科学版), 2010, 29(4): 538-542 |
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| 作者姓名： | 肖卫华 崔秀芳 何正彪 |
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| 作者单位： | 泰州师范高等专科学校,江苏泰州,225300;哈尔滨工程大学,材料科学与化学工程学院,哈尔滨,150001 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目 |
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| 摘 要： | 采用磁控溅射工艺制备了TiN薄膜,借助X射线衍射仪(XRD)、场发射扫描电子显微镜(FESEM)、原子力显微镜(AFM)和纳米压痕仪(nano-indentation)等,研究了薄膜的相结构、表面微观形貌、纳米硬度、弹性模量等,讨论了薄膜制备工艺参数,如基体温度、溅射功率、基体负偏压等的影响.结果表明,Ti N薄膜为多晶态,溅射功率、基体负偏压和基体温度等条件对薄膜的形貌、结构及纳米硬度、弹性模量等的影响比较复杂.
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| 关 键 词： | 磁控溅射 氮化钛 薄膜 |
Preparation and nano-mechanical properties of TiN films |
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| XIAO Wei-hua,CUI Xiu-fang,HE Zheng-biao. Preparation and nano-mechanical properties of TiN films[J]. JOURNAL OF HENAN POLYTECHNIC UNIVERSITY, 2010, 29(4): 538-542 |
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| Authors: | XIAO Wei-hua CUI Xiu-fang HE Zheng-biao |
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