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离子束溅射镀膜设备及工艺技术研究
作者姓名:胡凡  陈特超  范江华  罗超
作者单位:中国电子科技集团公司第四十八研究所,湖南长沙,410111;中国电子科技集团公司第四十八研究所,湖南长沙,410111;中国电子科技集团公司第四十八研究所,湖南长沙,410111;中国电子科技集团公司第四十八研究所,湖南长沙,410111
摘    要:

关 键 词:离子束溅射  SiO2薄膜  沉积速率  均匀性
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