| 玻璃基底上氧化铟锡薄膜的光致发光性能 |
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| 引用本文： | 王东生,杜建周,李雪华,许艳艳,李永祥. 玻璃基底上氧化铟锡薄膜的光致发光性能[J]. 中国激光, 2011, 0(1) |
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| 作者姓名： | 王东生 杜建周 李雪华 许艳艳 李永祥 |
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| 作者单位： | 南京航空航天大学应用物理系;中国科学院上海硅酸盐研究所高性能陶瓷和超微结构国家重点实验室;南京航空航天大学航空宇航学院; |
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| 基金项目： | 江苏省自然科学基金(BK2006197); 高性能陶瓷和超微结构国家重点实验室开放课题基金(SKL200804SIC)资助课题 |
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| 摘 要： | 用直流磁控溅射法在190℃玻璃基底上制备了氧化铟锡(ITO)薄膜,利用荧光分光光度计研究了ITO薄膜的光致发光性能。结果表明,室温下ITO薄膜在波长250 nm光源的激发下,分别在467 nm和751 nm处观察到了发光强度较强的蓝光宽带和强度较弱的红光带。上述发光峰的出现分别和ITO薄膜中的氧空位、铟空位等缺陷在禁带中形成的能级有关,其中氧空位形成的施主能级位于导带下1.2 eV处,而铟空位形成的受主能级位于价带下1.65 eV处。
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| 关 键 词： | 薄膜 氧化铟锡薄膜 光致发光 直流磁控溅射 能级 |
Photoluminescence Properties of Indium Tin Oxide Films Deposited on Glass Substrate |
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| Wang Dongsheng, Du Jianzhou, Li Xuehua Xu Yanyan Li Yongxiang. Photoluminescence Properties of Indium Tin Oxide Films Deposited on Glass Substrate[J]. Chinese Journal of Lasers, 2011, 0(1) |
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| Authors: | Wang Dongsheng Du Jianzhou Li Xuehua Xu Yanyan Li Yongxiang |
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| Affiliation: | Wang Dongsheng1,2 Du Jianzhou1,3 Li Xuehua1 Xu Yanyan1 Li Yongxiang2(1Department of Applied Physics,Nanjing University of Aeronautics and Astronautics,Nanjing,Jiangsu 210016,China2State Key Laboratory of High Performance Ceramics and Superfine Microstructure,Shanghai Institute of Ceramics,Chinese Academy of Sciences,Shanghai 200050,China3College of Aerospace Engineering,China) |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | thin films indium tin oxide thin film photoluminescence direct current magnetron sputtering energy level |
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