| 光刻机的分辨率和对准特性研究 |
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| 引用本文： | 唐九耀,曹向群,等.光刻机的分辨率和对准特性研究[J].光电子．激光,2001,12(11):1202-1203. |
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| 作者姓名： | 唐九耀 曹向群 |
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| 作者单位： | 浙江大学国家光学仪器工程技术研究中心, |
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| 基金项目： | 浙江省科技计划资助项目 ( 0 0 110 14 2 0 ) |
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| 摘 要： | 本文以PLA－501F光刻机为例，研究如何使光刻机的分辨率和对准精度得到充分发挥。指出了光源、光刻胶、滤光片和主物镜的相互匹配是充分发挥光刻机分辨率的关键问题；在提高光刻工件的对准精度方面，牵涉到母板的套准图形设计及对准时的技巧。本文还分析了接近式曝光和接触式曝光的主要优缺点。
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| 关 键 词： | 光刻机 分辨率 对准特性 |
| 文章编号： | 1005-0086(2001)11-1202-02 |
| 修稿时间： | 2001年2月20日 |
Research on the Resolution and Alignment Limit of a Mask Aligner |
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| TANG Jiu yao,CAO Xiang qun,CHEN Yu qing.Research on the Resolution and Alignment Limit of a Mask Aligner[J].Journal of Optoelectronics·laser,2001,12(11):1202-1203. |
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| Authors: | TANG Jiu yao CAO Xiang qun CHEN Yu qing |
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| Abstract: | It is studied how to reach the resolution and alignment limit of a mask aligner with PLA 501F as a instance in this paper.It is stressed that the mutual coordination of light source,photo resist,filter and main lens,is the key point to reach the resolution limit of a photo lithographer,the alignment pattern design and the alignment skill play an in portent role in improving the alignment accuracy of a photo lithographer.Moreover the merits and de merits of contact and proximity exposure is analyzed in the paper. |
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| Keywords: | photolithographic resolution alignment |
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