射频辉光放电发射光谱在深度分析有效信息量方面的改进 |
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引用本文: | KazyakiWagatsuma 宋祖峰 李玉琴.射频辉光放电发射光谱在深度分析有效信息量方面的改进[J].钢铁译文集,2003(2):15-19. |
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作者姓名: | KazyakiWagatsuma 宋祖峰 李玉琴 |
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摘 要: | 评述了射频辉光放电发射光谱中的两种新的测量方法:调幅技术和偏置电流导电技术。这两种方法在分析薄膜试样时非常有效。应用调幅技术时,辉光放电电压以低频进行调制,在发射信号周期性变化的同时,溅射率降低。尽管随脉冲数的减少发射强度降低,但发射强度能用选频放大器选择性地进行检测,从而能获得较好的信噪比。在偏置电流导电技术中,直流偏置电流被导入由低通滤波器和负载电阻组成的辉光放电灯电路中,偏置电流将大量电子引入等离子体中,从而导致等离子体区域发射强度的增强,而同时由于偏置电流的减少而使得溅射率降低。这两种技术有利于改进辉光放电发射光谱的深度信息分析。
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关 键 词: | 辉光放电 发射光谱 深度剖面 有效信息量 调幅技术 镀镍 镀层 |
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