| 用微硅层析法制作的微型硅传感器 |
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| 引用本文： | 孙丽玲,TrevorYork,JhonHatfield. 用微硅层析法制作的微型硅传感器[J]. 电子元器件应用, 2003, 5(4): 18-20 |
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| 作者姓名： | 孙丽玲 TrevorYork JhonHatfield |
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| 作者单位： | [1]西安微电子技术研究所，陕西西安710054 [2]英国曼彻斯特科技大学 |
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| 摘 要： | 主要介绍1种用硅的微机械加工技术研制的硅电容式传感器，采用电容层析法(ECT)技术可检测尺寸为50μm左右的微小粒子。其中的主要技术有硅材料的微机械加工技术，特厚光刻胶的匀胶曝光技术，微集成电镀技术。
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| 关 键 词： | 层析法 各向异性腐蚀 光刻胶 选择电镀 传感器 |
Microminiature Silicon Sensor Fabricated by Silicon Tomography |
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| Trevor York,Jhon Hatfield. Microminiature Silicon Sensor Fabricated by Silicon Tomography[J]. Electronic Component & Device Applications, 2003, 5(4): 18-20 |
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| Authors: | Trevor York Jhon Hatfield |
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