| 射频磁控溅射制备硼碳氮薄膜 |
| |
| 引用本文： | 王玉新,冯克成,张先徽,王兴权,赵永年. 射频磁控溅射制备硼碳氮薄膜[J]. 功能材料, 2007, 38(6): 889-890,894 |
| |
| 作者姓名： | 王玉新 冯克成 张先徽 王兴权 赵永年 |
| |
| 作者单位： | 长春理工大学,理学院,吉林,长春,130022;吉林大学,超硬材料国家重点实验室,吉林,长春,130012 |
| |
| 摘 要： | 采用射频磁控溅射技术,用六角氮化硼和石墨为溅射靶,以氩气(Ar)和氮气(N2)为工作气体,在Si (100)衬底上制备出硼碳氮薄膜.通过X射线衍射(XRD)、傅里叶红外吸收光谱(FTIR)和X射线光电子能谱(XPS)等分析手段对样品结构、组分进行了分析.结果表明,样品的组成原子之间实现了原子级化合,且薄膜为乱层石墨结构.样品中B、C、N的原子比近似为1:1:1.
|
| 关 键 词： | 射频磁控溅射 硼碳氮薄膜 红外吸收光谱 |
| 文章编号： | 1001-9731（2007）06-0889-02 |
| 修稿时间： | 2006-12-062007-01-25 |
Preparation of boron carbon nitride thin films by RF magnetron sputtering |
| |
| WANG Yu-xin,FENG Ke-cheng,ZHANG Xian-hui,WANG Xing-quan,ZHAO Yong-nian. Preparation of boron carbon nitride thin films by RF magnetron sputtering[J]. Journal of Functional Materials, 2007, 38(6): 889-890,894 |
| |
| Authors: | WANG Yu-xin FENG Ke-cheng ZHANG Xian-hui WANG Xing-quan ZHAO Yong-nian |
| |
| Affiliation: | 1. College of Science,Changchun University of Science and Technology, Changchun 130022,China; 2. National Key Laboratory of Super-Hard Materials,Jilin University, Changchun 130012, China |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | RF magnetron sputtering BCN thin films infrared absorption spectrum |
| 本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录！ |
|
