闪光釉制备工艺对其性能的影响

闪光轴的特征是对入射光有金属镜面般的反射，研究表明，这种反射是由轴中以（200）晶面平行于轴面的CeO2晶粒造成的，晶粒的取向程度越高反射越强，闪光轴的闪光效果可用于晶粒聚向度F来表征。制备工艺对F影响强烈。本工艺条件，CeO2质量分数为65－8％，熔制温度150℃、保温20－30min，获得F为60％的闪光轴。