| 硅基多孔氧化铝薄膜的解理断裂特性 |
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| 引用本文： | 濮林,朱健民,吴俊辉,邹建平,周舜华,鲍希茂,李齐,冯端. 硅基多孔氧化铝薄膜的解理断裂特性[J]. 电子显微学报, 2000, 19(4): 471-472 |
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| 作者姓名： | 濮林 朱健民 吴俊辉 邹建平 周舜华 鲍希茂 李齐 冯端 |
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| 作者单位： | 南京大学物理系固体微结构国家实验室,南京,210093 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目 !(5 9832 10 0 )，攀登计划资助项目 |
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| 摘 要： | 近年来,人工制备量子点、量子线等纳米结构材料引起了广泛关注。通常的制备方法有电子束刻蚀、离子束刻蚀、X射线刻蚀、电子全息成像刻蚀等。这类方法所能达到的最低尺度为≥10nm[1]。而阳极氧化多孔氧化铝的最小孔径可达1nm[2],其特征参数如孔径(1～300nm)、孔长(10～300nm)及孔密度(108～1011cm-2)都可以用选择不同腐蚀电压的方法来加以控制,而且孔的长度直径比可达1000以上,所以,作为模板,多孔氧化铝薄膜在纳米材料制备方面有其独到之处。但是,多孔氧化铝薄膜容易卷曲、断裂,这一缺点影响它在纳米工业中的应用。本文利用电镜研究阳极氧…
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| 关 键 词： | 硅基 多孔氧化铝薄膜 解理断裂特性 |
Fracture of silicon-based anodic porous alumina film |
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| PU Lin,ZHU Jian-min,WU Jun-hui,ZOU Jian-ping,ZHOU Shun-hua,BAO Xi-mao,LI Qi,FENG Duan. Fracture of silicon-based anodic porous alumina film[J]. Journal of Chinese Electron Microscopy Society, 2000, 19(4): 471-472 |
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| Authors: | PU Lin ZHU Jian-min WU Jun-hui ZOU Jian-ping ZHOU Shun-hua BAO Xi-mao LI Qi FENG Duan |
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