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新型双桥结构硅压力传感器
引用本文:岳瑞峰,刘理天,李志坚. 新型双桥结构硅压力传感器[J]. 电子器件, 2000, 23(4): 243-247
作者姓名:岳瑞峰  刘理天  李志坚
作者单位:清华大学微电子学研究所 北京 100084
摘    要:在利用有限元法分析硅杯结构应力分布的基础上,设计制造了两种新型双惠斯登电桥结构压力传感器。其中力敏电桥位于膜片上的高应力区,补偿电桥位于膜片对角线上或膜片附近逐渐增厚的体硅区,并且组成每个电桥的四个电阻集中设置在同一区域。提出了一种将力敏电桥和补偿电桥的输出信号相减的新方法,可望明显减小威力传感器的温漂。

关 键 词:压力传感器 惠斯登电桥 零点温漂 有限元法
文章编号:1005-9490(2000)04-243-05
修稿时间:2000-05-11

Silicon Pressure Sensor with Novel Double Wheatston-bridge Configuration
Abstract:
Keywords:
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