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900mm高功率半导体激光器线阵列
作者姓名:辛国锋 冯荣珠 陈国鹰 花吉珍
作者单位:[1]河北工业大学信息学院电子所,天津300130 [2]中国电子科技集团公司第十三研究所,石家庄050021
摘    要:利用金属有机化台物气相淀积(MOCVD)技术生长了InGaAs/GaAs分别限制应变单量子阱激光器工作物质。利用它制成半导体激光器线阵列,其峰值波长为900nm,光谱半高全宽小于4nm,在脉宽1000μs、13Hz的输入电流抽运下.输出峰值功率接近60W(室温,电流87A),斜率效率为0.64W/A。

关 键 词:半导体激光器线阵列 金属有机化台物气相淀积 单量子阱 材料结构 制作工艺
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