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位错从裂纹尖端的动态发射
作者姓名:赵瑞环  戴树和  李振民
作者单位:中国科学院大连化学物理研究所派往美国罗切斯特大学,南京化工学院 访问学者,名誉教授 美国罗切斯特大学霍普曼讲座教授
摘    要:在载荷作用下,位错一个个地从模式Ⅱ或模式Ⅲ的裂纹尖端放出。放射过程发生在局部应力强度因子达到临界值时,放射出来的位错以一定速度离开,运动速度与大于晶格摩擦力的有效剪应力的三次方成正比。本研究发现饱和所需的时间与晶格摩擦力的关系至大,与施加应力关系较小,几乎与放射位错的临界应力强度因子无关。无位错区的大小随着位错放出数目增加而加大,大的临界应力强度因子其值也大,但与晶格摩擦力的大小没什么影响。卸载时,某些位错回至裂纹内而消失,此时无位错区的大小依卸除的载荷而增加。位错的动态分布与静态分布不同,仅仅在饱和时二者才接近一致。

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