| Zn1-xMgxO薄膜的低压MOCVD生长与性质 |
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| 作者姓名： | 刘伟 顾书林 叶建东 朱顺明 秦锋 周昕 刘松民 胡立群 张荣 施毅 郑有炓 |
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| 作者单位： | 南京大学物理系,南京,210093;南京大学物理系,南京,210093;南京大学物理系,南京,210093;南京大学物理系,南京,210093;南京大学物理系,南京,210093;南京大学物理系,南京,210093;南京大学物理系,南京,210093;南京大学物理系,南京,210093;南京大学物理系,南京,210093;南京大学物理系,南京,210093;南京大学物理系,南京,210093 |
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| 基金项目： | 国家重点基础研究发展计划(973计划)，国家自然科学基金，国家高技术研究发展计划(863计划) |
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| 摘 要： | 利用低压金属有机物气相沉积(LP-MOCVD)技术,采用两步生长法,在(0001)蓝宝石衬底上获得了纤锌矿结构的Zn1-xMgxO合金单晶薄膜.实验发现随着Mg原子的增多,ZnMgO的晶格常数逐渐减小.X射线衍射谱中未出现除(0002)峰之外的其他峰位,表明该合金薄膜具有很强的择优取向和较好的晶体质量.室温透射谱与光致发光谱显示,其吸收边或带边发光峰随Mg原子浓度的增加首先出现红移然后出现蓝移.该反常现象与ZnMgO薄膜中产生的杂质缺陷的行为有关.研究表明在MOCVD生长ZnMgO合金薄膜过程中,必须优化与控制反应条件,以抑制杂质缺陷的产生.
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| 关 键 词： | 锌镁氧合金 低压金属有机物气相沉积 X射线衍射 透射谱 光致发光谱 |
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