首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     

钝化边的制作及其对不同尺寸自对准InGaP/GaAs HBT性能的影响
引用本文:郑丽萍,刘新宇,袁志鹏,孙海锋,和致经,吴德馨.钝化边的制作及其对不同尺寸自对准InGaP/GaAs HBT性能的影响[J].半导体学报,2004,25(3).
作者姓名:郑丽萍  刘新宇  袁志鹏  孙海锋  和致经  吴德馨
作者单位:中国科学院微电子中心,北京,100029
摘    要:采用全耗尽的InGaP材料在基区GaAs表面形成钝化边(passivation ledge)的方法,研制出了带钝化边的自对准InGaP/GaAs异质结双极晶体管(HBT).通过对不同尺寸、有无钝化边器件性能的比较得出:钝化边对提高小尺寸器件的直流增益有明显效果,对器件的高频特性无明显影响.此外,钝化边的形成改善了所有实验器件的长期可靠性.

关 键 词:钝化边  直流增益  异质结双极晶体管

Passivation Ledge Fabrication and Its Effect on Performance of Self-Aligned InGaP/GaAs HBT with Variety of Emitter Sizes
Abstract:
Keywords:
本文献已被 万方数据 等数据库收录!
点击此处可从《半导体学报》浏览原始摘要信息
点击此处可从《半导体学报》下载全文
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号