| 铂薄膜中氧和碳的行为 |
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| 引用本文： | 武蕴忠,丁青,徐梅芳,王渭源. 铂薄膜中氧和碳的行为[J]. 金属学报, 1994, 30(14): 82-85 |
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| 作者姓名： | 武蕴忠 丁青 徐梅芳 王渭源 |
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| 作者单位： | 中国科学院上海冶金研究所 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金,中国科学院上海功能材料与器件研究中心资助 |
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| 摘 要： | 用Ａｕｇｅｒ电子能谱研究铂薄膜中氧和碳杂质的行为．结果表明，氧和碳受它们在铂膜中扩散过程限制．在１０００℃上、下两个温区，氧具有不同的扩散激活能，分别等于０．９８和０．４４ｅＶ；５５０─１０００℃温度范围内，氧向膜外扩散，使铂膜净化；１０００─１２００℃温度范围内，氧向膜内扩散，使铂膜氧化．在所研究的整个温度范围内，碳的扩散激活能等于０．５２ｅｖ，其扩散行为和氧相同，且随着氧含量的增减而增减．
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| 关 键 词： | Auger电子能谱，扩散，铂，氧，碳 |
BEHAVIOUR OF OXYGEN AND CARBON IN Pt THIN FILM |
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| WU Yunzhong,DING Qing,XU Meifang,WANG Weiyuan. BEHAVIOUR OF OXYGEN AND CARBON IN Pt THIN FILM[J]. Acta Metallurgica Sinica, 1994, 30(14): 82-85 |
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| Authors: | WU Yunzhong DING Qing XU Meifang WANG Weiyuan |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | diffusion Pt film oxygen carbon |
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