玻璃磁控溅射镀膜生产线设计 |
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引用本文: | 田晓娟.玻璃磁控溅射镀膜生产线设计[J].伺服控制,2012(7):81-83. |
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作者姓名: | 田晓娟 |
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作者单位: | 兰州交通大学光电技术与智能控制教育部重点实验室 |
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摘 要: | 为实现用真空磁控溅射镀技术对玻璃进行连续式镀膜,设计了一条基于PLC的自动化生产线。在精确控制镀膜时间和靶电流,保持电压不变的条件下,通过闭环控制实现镀膜室的工作气体气压恒定控制,从而得到稳定的沉积速率,最终在实验中利用真空磁控溅射镀膜方法制备出分布均匀,附着性强和特定厚度的膜层。通过上位机软件对参数值进行最优控制.在提高沉积速率的同时实现了玻璃大批量深加工的目的。
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关 键 词: | 磁控溅射 镀膜 沉积速率 工作气体气压 |
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