| 活性屏等离子体源渗氮技术原理及应用 |
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| 引用本文： | 李广宇,王中一,陈琳,曹雪梅,王知源,雷明凯.活性屏等离子体源渗氮技术原理及应用[J].金属热处理,2013,38(2):9-14. |
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| 作者姓名： | 李广宇 王中一 陈琳 曹雪梅 王知源 雷明凯 |
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| 作者单位： | 大连理工大学材料科学与工程学院表面工程实验室,辽宁大连,116024 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金(50725519) |
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| 摘 要： | 活性屏等离子体源渗氮技术是一种先进的渗氮技术,消除了常规直流等离子体渗氮技术的固有缺陷,且可处理聚合物材料及表面附着氧化皮的金属材料.本文介绍了活性屏等离子体源渗氮技术传质机理的研究进展,在改性低合金钢、不锈钢、工具钢、聚合物材料以及抗菌功能材料等方面的最新结果,评述了活性屏等离子体源渗氮技术存在的问题和发展趋势.
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| 关 键 词： | 等离子体源渗氮 金属 聚合物 传质机制 |
Principle and application of active screen plasma source nitriding |
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| Li Guangyu,Wang Zhongyi,Chen Lin,Cao Xuemei,Wang Zhiyuan,Lei Mingkai.Principle and application of active screen plasma source nitriding[J].Heat Treatment of Metals,2013,38(2):9-14. |
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| Authors: | Li Guangyu Wang Zhongyi Chen Lin Cao Xuemei Wang Zhiyuan Lei Mingkai |
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| Affiliation: | (Surface Engineering Laboratory,School of Materials Science and Engineering,Dalian University of Technology, Dalian Liaoning 116024,China) |
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