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| 印制板H_2O_2/H_2SO_4蚀刻液稳定剂 | |
| 作者姓名： | 吴水清 |
| 作者单位： | 中国科学院高能物理研究所六室 |
| 摘 要： | 自一九七二年开始过氧化氢/硫酸蚀刻工艺以来,人们逐渐对它的优越性发生了浓厚的兴趣它与其他蚀刻液相比,具有以下优点:1、适应各种抗蚀层。如金属镀层(浸锡、镀锡、铅铝合金);有机抗蚀层。2、侧蚀小,溶铜量大。3、蚀刻速率高,反应易控制。4、回收座液简便,毒性小、安全、环境污染小。去年七月在北京邮电学院召开的 H_2O_2/H_2SO_4型蚀刻液鉴定会,为在我国推广、使用这种工艺作出了积极的贡献。特别是北京邮电学院研制的稳定剂 H_2O_2—A、H_2O_2—B、H_2O_2—C、 |
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